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鍍膜線應(yīng)用

Equipment application
光掩膜

光掩膜是刻有微電路的高精度版,由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成,蝕刻后的殘留鉻部分即為設(shè)計(jì)的微電圖,這種制版方式在掩膜行業(yè)稱為光透。

光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成電路)芯片,還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片,光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影,這種方法就是熟稱的曝光,這個(gè)時(shí)候的掩膜也可稱為光罩。

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