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HCCAP系列

電容器薄膜

金屬化膜

Metallized film of capacitor
真空應(yīng)用解決方案提供商
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Capacitor roll to roll vacuum coating equipment 電容器卷繞真空鍍膜設(shè)備

     HCCAP系列設(shè)備可滿足無限制范圍的電容器金屬化膜的要求,在真空狀態(tài)下,將鋁或鋅鋁蒸鍍到薄膜的表面。從標(biāo)準(zhǔn)到高端應(yīng)用,從厚膜到薄膜,從平面設(shè)計到分段設(shè)計,從厚層到薄層,從純層到疊層,所有可能的組合都可以在一個系統(tǒng)中實現(xiàn)。帶有多個選項和專有組件的模塊化概念使HCCAP系列成為批量生產(chǎn)的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品以及諸如超薄膠片和分段圖案等高度復(fù)雜應(yīng)用的首選系統(tǒng)。

      隨著電子器件在日常產(chǎn)品和工業(yè)中的應(yīng)用越來越多,薄膜電容器的許多新應(yīng)用已經(jīng)開發(fā)出來,它們必須在功能、精度和使用壽命方面達(dá)到最高標(biāo)準(zhǔn),這與小型化的要求直接相關(guān)。通過使用最薄的薄膜可以減少重量和空間。這些高科技材料的加工,加上精密的層剖面沉積和分割,需要具有高度創(chuàng)新性、自動化和再現(xiàn)性的生產(chǎn)設(shè)備。

      HCCAP系列設(shè)備具有高度的創(chuàng)新性,自動化性和可重復(fù)性,鍍制的薄膜可滿足這些應(yīng)用功能、精度和使用壽命方面的最高標(biāo)準(zhǔn)。該系統(tǒng)的靈活性是成功的關(guān)鍵,復(fù)雜的單個組件,集成到模塊化機(jī)器概念,使差異,并允許優(yōu)化的擁有成本,高生產(chǎn)力。

      質(zhì)量控制技術(shù),超偏壓技術(shù)用于邊緣,特殊產(chǎn)品,基于柔性版印刷系統(tǒng)用于高精度分割,基于閃蒸的自由邊緣油蒸發(fā)器用于均勻邊緣生成,所有這些都與一個強(qiáng)大的設(shè)計相結(jié)合,用于大量生產(chǎn)各種產(chǎn)品。

      HCCAP系列廣泛應(yīng)用于電子移動、智能電網(wǎng)、可再生能源、建筑和許多其他領(lǐng)域。


優(yōu)勢:

?采用ISS技術(shù)進(jìn)行100%原位質(zhì)量控制
?強(qiáng)大的等離子預(yù)處理功能,具有很高的產(chǎn)品一致性和層粘附性
?創(chuàng)新的蒸發(fā)器設(shè)計和布置可實現(xiàn)無與倫比的層均勻性
?先進(jìn)的掩膜技術(shù)可實現(xiàn)高精度和可重現(xiàn)的產(chǎn)品質(zhì)量

Product Advantage.

產(chǎn)品特點
HCCAP系列電容器卷繞真空鍍膜設(shè)備包括以下關(guān)鍵功能:
  • 品質(zhì)

    100%現(xiàn)場質(zhì)量控制

  • 強(qiáng)大

    強(qiáng)大的等離子預(yù)處理

  • 結(jié)合力強(qiáng)

    產(chǎn)品稠度和涂層間粘附性高

  • 創(chuàng)新

    創(chuàng)新的蒸發(fā)器設(shè)計和布置

  • 精密

    精密的掩蔽技術(shù)和涂層均勻性

  • 可重復(fù)性

    產(chǎn)品質(zhì)量高精度和可重復(fù)性

型號 HCCAP-650
寬幅(mm) max.670
直徑(mm) max.620
卷繞速度 Max.14m/s
基材 PET,(B)OPP等
基材厚度 >4 μm
涂層 鋁,鋁/鋅,鋁/鋅厚邊,銀/鋅
型號 HCCAP-900
寬幅(mm) max.920
直徑(mm) max.620
卷繞速度 Max.14m/s
基材 PET,(B)OPP等
基材厚度 >4 μm
涂層 鋁,鋁/鋅,鋁/鋅厚邊,銀/鋅
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電話:13316689188

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