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HCFLC系列

生產(chǎn)和研發(fā)的最佳選擇

The best choice for production and R&D
真空應(yīng)用解決方案提供商
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Flexible electronic roll to roll vacuum coating equipment 柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備

      HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品,傳感器,RFID標(biāo)簽,智能玻璃,智能包裝等提供了一種非常有競爭力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用,在滿足當(dāng)今和未來市場需求的同時,成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

      HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的最佳選擇。幾乎無限的可能性,在安排多達(dá)六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機(jī)器的能力,應(yīng)用大量的現(xiàn)場測量傳感器,使機(jī)器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn),同時又是非常靈活和靈活的,當(dāng)作為一個研發(fā)機(jī)器使用。

這也使得該機(jī)成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板(FPCB)、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的首選??尚D(zhuǎn)磁控管,最大涂層寬度為2000毫米,可能的襯底輥直徑為500毫米,是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。此外,相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個過程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

      除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時運(yùn)行反應(yīng)濺射工藝外,HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器,用于連續(xù)、準(zhǔn)確地監(jiān)測所需的物理層特性,如層電阻率、反射率或透射比。


優(yōu)勢:

?工藝可選直流和中頻濺射
?氣氛隔離設(shè)備于不同氣氛濺射段之間
?采用自下而上的濺射方式防止掉渣
?閉環(huán)張力控制避免基材刮傷和褶皺
?鍍膜輥溫度在-15~80℃可控
?渦輪分子泵和深冷捕集泵組合的高真空系統(tǒng)
?薄膜性能在線檢測系統(tǒng)

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCFLC系列柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備包括以下關(guān)鍵功能:
  • 卓越

    高系統(tǒng)的通用性和靈活性

  • 智能

    智能機(jī)器理念保證品質(zhì)

  • 簡單

    易于操作和清潔

  • 設(shè)計緊湊

    設(shè)施占地面積最小

  • 溫控

    溫控涂層輥筒(-15至+80°C)

  • 穩(wěn)健設(shè)計

    易于維護(hù)和機(jī)器高正常運(yùn)行時間

型號 HCFLC-400
寬幅 400mm
直徑(mm) Max.500
卷繞速度 0.1–25.0 m/min
卷繞張力 25–600 N
基材 PET、PEN、PI、Al、SST、銅、柔性玻璃等
涂層 銀、鋁、銅、鉻、鎳、鈦
電介質(zhì) AZO, ITO, SiO2, SiN, SnO2, Nb2O5, TiO2
型號 HCFLC-650
寬幅 650mm
直徑(mm) Max.500
卷繞速度 0.1–25.0 m/min
卷繞張力 25–600 N
基材 PET、PEN、PI、Al、SST、銅、柔性玻璃等
涂層 銀、鋁、銅、鉻、鎳、鈦
電介質(zhì) AZO, ITO, SiO2, SiN, SnO2, Nb2O5, TiO2
型號 HCFLC-1650
寬幅 1650mm
直徑(mm) Max.500
卷繞速度 0.1–25.0 m/min
卷繞張力 25–600 N
基材 PET、PEN、PI、Al、SST、銅、柔性玻璃等
涂層 銀、鋁、銅、鉻、鎳、鈦
電介質(zhì) AZO, ITO, SiO2, SiN, SnO2, Nb2O5, TiO2
型號 HCFLC-2000
寬幅 2000mm
直徑(mm) Max.500
卷繞速度 0.1–25.0 m/min
卷繞張力 25–600 N
基材 PET、PEN、PI、Al、SST、銅、柔性玻璃等
涂層 銀、鋁、銅、鉻、鎳、鈦
電介質(zhì) AZO, ITO, SiO2, SiN, SnO2, Nb2O5, TiO2
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