One Axis magnetron sputtering coating equipment 單軸磁控濺射鍍膜設備
通過將高產(chǎn)量與優(yōu)異的涂層效果相結(jié)合,HCMS-2000使工業(yè)能夠滿足“準時”制造的要求。HCMS-2000是一種批次式濺射系統(tǒng),能夠處理大型基板的金屬化,并提供多種鍍膜工藝,包括彩色涂層、灰色調(diào)和等離子體增強系統(tǒng)。
旋轉(zhuǎn)式前門設計,生產(chǎn)效率高
旋轉(zhuǎn)式前門允許高生產(chǎn)率的加工和裝卸順序?;蹇杀憬菁虞d到掛架或公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架
廣泛應用的靈活濺射系統(tǒng)
用于金屬高速沉積的磁控濺射沉積,以及用于沉積金屬氮化物或金屬氧化物層的反應磁控濺射。
先進的MF(中頻)PECVD沉積源允許沉積透明的面漆和增強的耐擦拭層。
高效的抽油機易于操作
進一步的關鍵要素是高效真空泵系統(tǒng),包括有效的冷凍盤管系統(tǒng)和靈活的工藝氣體管理系統(tǒng)。
優(yōu)勢:
?低運營成本和最快的生產(chǎn)周期確保最高的工業(yè)標準和最具競爭力的成本,材料和能源消耗低
?根據(jù)客戶的生產(chǎn)需求量身定制設計服務
?快速,靈活的生產(chǎn)周期以及靈活,多功能的生產(chǎn)系統(tǒng),能夠以市場上最快的周期運行,并配有自動控制系統(tǒng),可消除人為錯誤
?所有操作階段均由具有自動存檔和備份功能的PC進行管理,該PC提供實時報告,系統(tǒng)和周期狀態(tài)數(shù)據(jù),在整個過程中通知和指導操作員
?將不同類型的過程組合在一起,集成到一個系統(tǒng)中,以滿足從不斷發(fā)展的市場開始或未來升級的未來需求
?等離子體處理可去除揮發(fā)性產(chǎn)品的表面材料,并可用于微清潔被有機化合物污染的表面