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干涉光學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域及相關(guān)配套生產(chǎn)廠商、PVD鍍膜加工企業(yè)
鍍膜線解決方案
干涉光學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域及相關(guān)配套生產(chǎn)廠商、PVD鍍膜加工企業(yè)
為企業(yè)提供PVD鍍膜設(shè)備和鍍膜工藝技術(shù)
針對干涉光學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域行業(yè)產(chǎn)品的特點(diǎn)和不斷增長的客戶需求，不斷開發(fā)出多種設(shè)備技術(shù)和鍍膜工藝
很多現(xiàn)代檢測方法以及大多數(shù)電信工業(yè)都 建立在光學(xué)技術(shù)基礎(chǔ)上。這些應(yīng)用中，光學(xué)濾鏡需要將特定的波長從光束中過濾掉(陷波濾光片), 只允許指定位置的光譜帶通過(帶通濾光片)或者將特定波長光的反射轉(zhuǎn)換成透射(截止濾光片)。具有高低不同折射率的薄膜介電層依次疊加制作而成的干涉光學(xué)膜組被用作光學(xué)濾鏡。
匯成真空針對光學(xué)精密濾鏡開發(fā)的磁控濺射生產(chǎn)線，其設(shè)計用于在平面基材上制備光學(xué)濾鏡。作為精密濾鏡，其吸收光譜剖面須具備典型深溝槽和低散射率的特性并能夠重復(fù)產(chǎn)出。從技術(shù)角度講，這意味著：50、100或者更多層的薄膜將被制備并疊加到一起并且每層的膜厚都要被精確控制，最終沉積到基片上的整體膜組厚度非均勻性小于+/- 1 %。工藝過程中應(yīng)排除光學(xué)相關(guān)雜質(zhì)，而且設(shè)備應(yīng)當(dāng)具備工藝配方全自動處理以及高產(chǎn)出能力。
鍍膜現(xiàn)場
鍍膜現(xiàn)場
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HCVAC-PVD
