HCMS+CA系列
專為高端衛(wèi)浴
PVD涂層設(shè)計(jì)
該系列設(shè)備采用陰極電弧離子鍍膜技術(shù)和磁控濺射技術(shù)、脈沖偏壓技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜機(jī)上，這種模式已成為當(dāng)前五金類離子鍍膜主流技術(shù)。
它既可以單獨(dú)用電弧或單獨(dú)用磁控濺射鍍膜，也可以利用兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在鍍膜過程不同階段發(fā)揮作用，比如在鍍膜初始利用電弧的高能粒子轟擊清洗和打底層，以增強(qiáng)膜/基結(jié)合力；隨后用中頻濺射鍍層，以得到細(xì)膩光滑涂層等。該設(shè)備還可配離子源，可滿足多功能鍍膜的需要。
優(yōu)勢：
?可以在幾秒鐘內(nèi)從一種涂層技術(shù)切換到另一種涂層的靈活性
?在同一周期內(nèi)可以具有多個(gè)涂層階段（多層涂層）
沉積速度快、基材溫升低、膜層損傷小
占地面積小，易于集成到工廠
精確控制鍍層的厚度
薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好
不同金屬、合金、氧化物混合濺射
本地或遠(yuǎn)程監(jiān)控鍍膜過程
| 型號 | HCMA-1619 |
| 真空室尺寸 | Ф1600×H1900mm |
| 制膜種類 | 金色氮化鈦、黑色碳化鈦、七彩氧化鈦、耐磨膜、超硬膜、金剛石膜、金屬裝飾膜等 |
| 電源類型 | 直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源 |
| 靶類型 | 多弧靶，選配中頻孿生柱靶或平面靶 |
| 真空室結(jié)構(gòu) | 立式前開門結(jié)構(gòu)（雙層水套式或水槽式冷卻）、后置抽氣系統(tǒng) |
| 真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵＋羅茨泵＋擴(kuò)散泵/分子泵＋維持泵 |
| 加熱系統(tǒng) | 常溫至350度可調(diào)可控（PID控溫），不繡鋼加熱管加熱 |
| 充氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制儀（1-4路） |
| 極限真空 | 6×10-4pa（空載、凈室） |
| 抽氣時(shí)間 | 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘 |
| 保壓率 | 1h≤0.6pa |
| 工件旋轉(zhuǎn)方式 | 上旋轉(zhuǎn)或下旋轉(zhuǎn)＋公自轉(zhuǎn)變頻無級可控可調(diào)，0-20轉(zhuǎn)/分 |
| 控制方式 | 手動＋半自動/觸摸屏＋PLC |
| 備注 | 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做 |
HCVAC-PVD
