高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)是在高真空條件下，采用電子書轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法，在襯底上鍍制各種金屬，氧化物、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等，可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜，可鍍各種高熔點(diǎn)材料。
在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī)；將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜；基片傘架采用中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn))，減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。
采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜；采用本公司獨(dú)有的比率控制法和多點(diǎn)在線監(jiān)控，可以形成高精度且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜；可利用操作性良好的升降機(jī)來取出基片傘架。
使用均勻分布的高離子電流密度的離子源，搭載雙電子槍，多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上，利用自動(dòng)蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)蒸鍍過程，工件架可選擇鐘罩式或行星式。
AR 膜（基材玻璃透過率＞91.5%）：1、420-680nm波段，單面平均透過率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；2、雙面平均透過率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
AS/AF膜測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：1、初始接觸角范圍為 115±5°；2、鋼絲絨耐摩擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負(fù)載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；3、 橡皮擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負(fù)載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
備注：測(cè)試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。
高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)優(yōu)勢(shì)有三點(diǎn)：提高沉積速率以實(shí)現(xiàn)更高產(chǎn)量，在半導(dǎo)體，光電和光子學(xué)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)高精度工藝，堅(jiān)固耐用且易于維護(hù)
